Почему даже Samsung откладывает переход к более высоким техпроцессам
Недавно Samsung Foundry объявила, что вывод 1,4 нм (SF1.4) перенесён с 2027 года на 2029 год, а в ближайшие три года компания сосредоточится на развитии семейства 2 нм (SF2). Это не просто «корректировка графика», а осознанный шаг, продиктованный реальными технологическими ограничениями.
Переход от 3 нм к 1,5‑1,4 нм требует полной перестройки производственной экосистемы: новые фоторезисты, маски, пелликлы, метрологическое оборудование и методы контроля дефектов. При этом High‑NA EUV, который обещает решить проблему миниатюризации, меняет всю цепочку поставок – нужны новые фотоматериалы, более точные измерительные системы и даже переосмысление дизайна кристаллов (меньшее поле экспонирования, сшивание).
Samsung уже использует ASML Twinscan EXE:5000 в исследовательских целях, но массовый переход на High‑NA EUV пока невозможен без доработки этих вспомогательных технологий. Поэтому компания выбирает более осторожный путь: сначала довести до коммерческой готовности семейство SF2, а уже потом уже планировать масштабный ввод 1,4 нм и High‑NA EUV.
Эта ситуация показывает, что даже крупнейший игрок в полупроводниках сталкивается с теми же проблемами, что и остальные: необходимость синхронного развития литографии, материалов, метрологии и производственного оборудования. Пока экосистема не будет готова, ускоренный переход к новым техпроцессам остаётся рискованным.
#SamsungFoundry #HighNAEUV #техпроцессы #полупроводники #литография #SF2 #технологическийпрорыв
5August 26, 2026 93 1
