삼성전자가 2028년까지 업계 최초로 네덜란드 반도체 노광 장비 기업 ASML의 고개구율(하이-NA) 극자외선 노광 장비를… — 디일렉(THEELEC)

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삼성전자가 2028년까지 업계 최초로 네덜란드 반도체 노광 장비 기업 ASML의 고개구율(하이-NA) 극자외선 노광 장비를 첨단 D램 제조 시설에 도입한다. 300mm 대형 포토 마스크도 공동 개발한다.삼성전자가 8일 이같은 내용의 ASML과 차세대 반도체 제조 협력 확대 방안을 발표했다.삼성전자는 "ASML과 기존에 협력한 성과로, 첨단 인공지능(AI) 반도체 제조에 필요한 차세대 기술 개발과 도입 일정을 앞당긴다"며 "양사의 협력은 하이-NA EUV 기술이 (파운드리 제조 공정에 이어) 첨단 메모리 분야에도 본격 적용될 채비를

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삼성전자-ASML, D램 제조에 하이 EUV 도입 - 디일렉(THE ELEC)

삼성전자가 2028년까지 업계 최초로 네덜란드 반도체 노광 장비 기업 ASML의 고개구율(하이-NA) 극자외선 노광 장비를 첨단 D램 제조 시설에 도입한다. 30