ASML 광학 부품 공급업체 자이스그룹이 중국의 EUV 반도체 제조 장비 개발에 최소 15년이 필요할 것이라는 전망 제시.
EUV는 극자외선을 활용해 7나노미터 이하 첨단 반도체 생산을 가능하게 하는 노광 기술로, 미국과 네덜란드의 수출 규제로 중국에는 서방산 EUV 장비 공급이 제한된 상황. 이에 중국 반도체 장비업체들은 기술 장벽을 극복하기 위해 자체 장비 개발을 추진 중.
자이스그룹 반도체 사업부 책임자 프랑크 로문트는 블룸버그TV와의 인터뷰에서 중국이 EUV 장비를 개발하는 데 약 15년이 걸릴 것으로 보는 것이 합리적이라고 평가. 다만 중국 업체들의 현재 기술 수준과 개발 진척도를 정확하게 평가하기는 어렵다고 언급.
최근 UBS 역시 중국 EUV 장비 개발업체와 서방 경쟁업체 간 기술 격차를 약 15년으로 평가한 바 있음. 현재 네덜란드 ASML은 전 세계에서 EUV 노광장비를 생산할 수 있는 유일한 기업이며, 독일 자이스그룹이 핵심 광학 부품을 공급 중.
이전 세대인 DUV 장비는 최첨단 모델을 제외하면 중국에 대부분 공급되고 있으며, 일부 첨단 장비는 미국의 수출 허가가 필요한 상황. 로문트는 중국에 대한 DUV 장비 수출 규제가 추가로 강화될 경우 유럽 장비업체들의 핵심 사업에 타격을 주는 동시에 중국의 장비 국산화 움직임을 더욱 촉진할 수 있다고 지적.
중국 반도체 업계는 수십 년간 관련 장비 개발을 추진해온 것으로 평가. 로문트는 “전혀 놀라운 일이 아닙니다. 이제 이 장비들이 어떤 역량을 갖추고 있는지 지켜봐야 합니다. 우리는 여전히 그들보다 훨씬 앞서 있습니다”라고 언급.
자이스의 광학 부품은 전 세계 반도체의 80% 생산에 활용되고 있음.
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16September 3, 2026 9.1K 32
